・陽明交通大學奈米中心提供已完成自行操作儀器程序的學生或研究人員，申請 24 小時（包含假日）的門禁及設備使用權限。這項服務旨在讓使用者能在非上班時間也能彈性運用奈米中心的儀器設備。申請者需登入儀器管理系統，下載並填寫相關表單，並在合格訓練員陪同下，於夜間累積特定儀器設備的實作次數。完成次數後，經技術員簽名並繳交記錄表，磁卡權限將於 3 天內設定完成。此外，也可透過線上電子表單提出申請。
・對象(須符合)：已完成自行操作儀器程序者；需擁有 24 小時（包含假日）門禁權限者；需依各儀器設備規定累積實作次數（限三個月內），例如：；濕式工作台：3 次；R120黃光室附屬設備或R137光阻塗佈機：5 次；雙面光罩對準曝光機A：5 次；雙面光罩對準曝光機B：5 次；全光譜反射膜厚量測儀：5 次；氧化擴散系統：3 次；低壓化學氣相沉積系統（LPCVD）：5 次；電漿輔助化學沉積系統A：5 次；電漿輔助化學沉積系統B：5 次；熱阻絲蒸鍍系統Thermal Evaporation Coater：3 次；雙電子鎗蒸鍍系統Dual E-Gun Evaporation System A台 及 B台：5 次；真空濺鍍系統Sputter System A台及Sputter System B台：4 次；高真空鍍膜系統(High Vacumn Deposition System)：5 次；介電性材料活性離子蝕刻機A台(RIE400iP）或 B台(RIE200L)：5 次；矽淺蝕刻系統(Shallow-Si RIE)：5 次；矽深蝕刻系統（DEEP-RIE）：5 次；介電性材料活性離子蝕刻機B(RIE200L)：5 次；快速退火系統Rapid Temperture Annealing(RTA)：3 次；全光譜反射式膜厚量測儀(Reflectometer)：5 次；原子層化學氣相沈積系統(ALD)：5 次；橢圓測試儀(Ellipsometer)：5 次；探針式輪廓儀(DektakXT)或 四點探針 (4-point Probe)：3 次；圖形產生系統(Pattern Generator)：5 次；Picosun原子層化學氣相沈積系統(Picosun ALD)：5 次；Veeco原子層化學氣相沉積系統(Veeco ALD)：5 次；步進式曝光機(i-line Stepper)：5 次；真空快速退火系統(RTP)：3 次
・24小時(含假日)門禁及設備權限：提供陽明交通大學奈米中心儀器設備的 24 小時（包含假日）使用權限
・申請：登入儀器管理系統下載列印表單，填寫後繳交給 NFC 何小姐核章，由合格訓練員陪同於夜間累積實作次數。累積次數後，找各機台技術員簽名，再將記錄表繳交給 NFC 何小姐。亦可登入儀器管理系統，線上提出 24 小時操作電子表單申請
・其它單位進駐固態大樓潔淨室之儀器設備，比照上列同類型設備辦理